更新時(shí)間:2025-08-13
訪問(wèn)量:1690
產(chǎn)品型號(hào):CHSQ-50-III
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
| 品牌 | 其他品牌 | 濕度范圍 | 95%RH | 
|---|---|---|---|
| 控溫范圍 | Rt+3-60℃ | 容量規(guī)格 | 50升 | 
| 溫度均勻性 | ±0.3(@37)℃ | 價(jià)格區(qū)間 | 2萬(wàn)-5萬(wàn) | 
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè) | 
三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí),采用高純N2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。
5.O2氣體濃度大于23%時(shí),采用高純O2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。
6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式,使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流,縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間,確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。
7.箱門打開時(shí),電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止,減少氣體損失節(jié)約氣源,減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染。
8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng),使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響。
9.溫度、氣體濃度,均采用數(shù)字顯示,直觀、清晰、準(zhǔn)確。
10.具有多種保護(hù)功能,當(dāng)顯示溫度超過(guò)預(yù)置溫度時(shí),可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能,保證溫度不超過(guò)預(yù)置值。11.水盤自然蒸發(fā)加濕,濕度達(dá)到95%,304不銹鋼材質(zhì),圓弧,易清潔。
12.滅菌系統(tǒng):紫外燈滅菌,靈活可控,操作時(shí)間短。
為解決上述現(xiàn)有技術(shù)方案中的不足,本發(fā)明提供了一種校正方便、取樣管道內(nèi)無(wú)凝水的細(xì)胞培養(yǎng)箱。
本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種細(xì)胞培養(yǎng)箱,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱包括培養(yǎng)腔,所述培養(yǎng)腔內(nèi)設(shè)置溫度傳感器、加熱部件;所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
檢測(cè)腔,所述檢測(cè)腔內(nèi)部設(shè)置:
管道,所述管道連通所述培養(yǎng)腔,取樣培養(yǎng)腔內(nèi)的氣體;
DI二管道,所述DI二管道連通所述培養(yǎng)腔,將取樣的氣體送回培養(yǎng)腔內(nèi);
檢測(cè)儀,所述檢測(cè)儀分析通過(guò)管道取樣的氣體;
DI二溫度傳感器,所述DI二溫度傳感器檢測(cè)取樣的氣體的溫度;
加熱器,所述加熱器設(shè)置在所述檢測(cè)腔內(nèi)。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,可選地,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
隔熱層,所述隔熱層設(shè)置在所述檢測(cè)腔和培養(yǎng)腔之間。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,優(yōu)選地,所述加熱部件包括加熱片,設(shè)置在培養(yǎng)腔內(nèi)的頂壁、下壁和側(cè)壁。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,優(yōu)選地,所述溫度傳感器設(shè)置在所述培養(yǎng)腔內(nèi)的上部。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,可選地,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
過(guò)濾器,所述過(guò)濾器設(shè)置在所述管道的入口端。
本發(fā)明的目的還在于提供了上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱的工作方法,該發(fā)明目的是通過(guò)以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的:
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱的工作方法,所述工作方法包括以下步驟:
(A1)溫度傳感器輸出溫度值A(chǔ);DI二溫度傳感器輸出溫度值B;
(A2)判斷溫度差(B-A)是否處于區(qū)間[ΔT+C,ΔT+D]內(nèi),C、D為常數(shù);ΔT=k•x2+0.013•x+0.05;k=-2×10-8•y2-3×10-6•y+0.0001,x為培養(yǎng)腔中心與頂壁的間距,y為培養(yǎng)腔中心到側(cè)壁的間距;x、y的單位是cm;
如溫度差處于上述區(qū)間內(nèi),無(wú)需調(diào)整;
如溫度差不處于上述區(qū)間內(nèi),進(jìn)入下一步驟;


三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置技術(shù)參數(shù)
型號(hào)  | CHSQ-50-III  | CHSQ-80-III  | CHSQ-100-III  | CHSQ-160-III  | CHSQ-200-III  | 
顯示屏  | 5.0寸觸摸屏  | ||||
公稱容積(L)  | 50  | 80  | 100  | 160  | 200  | 
溫度控制范圍(℃)  | Rt+3-60℃  | ||||
溫度波動(dòng)度(℃)  | ±0.2(@37)  | ||||
溫度均勻性(℃)  | ±0.3(@37)  | ||||
C02濃度控制范圍(VOL%)  | 0-20  | ||||
C02濃度控制誤差(%)  | ±0.1  | ||||
02濃度控制范圍(VOL%)  | 1-95  | ||||
02濃度控制誤差(%)  | ±0.3  | ||||